工业废气处理设备需要定期清理的原因：
1、因为废气处理设备的管道内温度降低，湿度过高，水蒸气凝结，会使粉尘容易黏附。影响设备功能运转和老化。
2、由于漏风或个别部件阻力增大，造成某些废气处理设备管段风速减小。
3、因为废气处理设备排气罩吸入的空气中的含尘浓度过高，所以废气处理设备需要定期清理。
4、废气处理设备系统的水平管段过长，或弯管曲率半径过小。如果不定时清理的话，影响废气处理。
废气处理设备：光催化和生物净化设备
光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无毒无害的产物，而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁，即使用常规的催化、氧化方法亦需要几百度的高温。
从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能，就足以激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂。常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，塑胶厂废气治理，如CdS半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，Ti02的综合性能较好，是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。
废气处理：活性炭除臭系列
特点：
① Wintop-CD活性炭除臭设备采取切线出风、环状过滤、中间进风、上不加料、下部卸料的结构，克服了传统的活性炭过滤器过滤阻力大、面积小、占地面积大、设备投资高、更换活性炭困难等缺陷，使活性炭过滤设备结构设计近乎于。
② Wintop-CD活性炭除臭设备是等体积传统活性炭过滤设备过滤面积的2~4倍，阻力只有传统的1/2~1/3。环形活性炭净化装置由于采用切线出风，其方向不受场地条件限制可任意摆放，抽风机和设备对接极易，排放管可直接固定于设备上，系统整齐合理。
适用场所：
① 垃圾焚烧过程的垃圾坑除臭。② 低浓度有机废气等。
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